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      勻膠機主要用于晶片涂光刻膠

      更新時間:2022-03-15   點擊次數:112次
        勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于該機的轉速和溶膠的黏度。采用觸摸屏設置可用于直徑28-200mm晶片涂覆,儀器配有“安全開關按鈕”轉速范圍300-8500RPM,可選無油或有油真空泵等配件。
        
        近年來的發展趨勢是在自動工作方式的勻膠機中加入預涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊,以增強光刻膠和晶片的附著力。為了提高生產率,國外已經研制出多種工藝模塊任意組合的積木式結構,有的還帶有膠膜自動測量和監控裝置。
        
        應用:
        該設備主要用于晶片涂光刻膠,有自動、手動和半自動三種工作方式。
        
        從其原理來說它有以下兩個特點:
        (1)旋轉速度
        轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大,對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。目前轉速控制方面有國際認定標準,如美國NIST標準等。
        
        (2)真空吸附系統
        真空泵一般采用無油泵,即通常說的干泵,因為任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而產生"飛片"的情況,還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統造成完全堵塞。有的勻膠機通過聯動機制,當真空吸附力不夠時不會開始旋轉。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統。
        
        總的來說,他們原理都是一樣的,即在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
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