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      等離子清洗機的清洗過程從原理上分為兩個過程

      更新時間:2021-02-03   點擊次數:453次
        等離子清洗機的清洗過程從原理上分為兩個過程
        過程1為:有機物的去除首先是利用等離子的原理將氣體分子激活,然后利用O,O3與有機物進行反應,達到將有機物排除的目的;
        過程2為:表面的活化首先是利用等離子的原理將氣體分子激活,然后利用O,O3含氧官能團的表面活化作用,來改善材料的粘著性和濕潤性能。
        等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。
        在等離子清洗機應用中,主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體(Ar2、N2、H2、O2等)在高頻低壓下被激發,產生含有離子、激發態分子,自由基等多種活性粒子。一般在等離子清洗中,可把活化氣體分為兩類,一類為惰性氣體的等離子體(如Ar2、N2等);另一類為反應性氣體的等離子體(如O2、H2等)。
        等離子產生的原理如下:給一組電極施以射頻電壓(頻率約為幾十兆赫茲),電極之間形成高頻交變電場,區域內氣體在交變電場的激蕩下,產生等離子體?;钚缘入x子對被清洗物進行表面物理轟擊與化學反應雙重作用,使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質,經過抽真空排出,而達到清洗目的。
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